Термическое испарение подразумевает использование различных материалов и форм для облегчения нагрева и испарения веществ в условиях высокого вакуума.
5 ключевых компонентов
1. Источники термического испарения
Источники термического испарения обычно изготавливаются из таких материалов, как вольфрам, тантал или молибден.
Эти источники выпускаются в виде лодочек, корзин, нитей и стержней с покрытием.
Лодки широко используются и бывают разных размеров. Более крупные лодочки обычно требуют большей мощности для той же скорости осаждения, но могут выдерживать более высокие максимальные скорости осаждения.
Также используются корзины и нити, которые часто поддерживают тигли или непосредственно нагревают испаряемые материалы.
Стержни с покрытием могут иметь покрытие из пассивного материала, например оксида алюминия, для повышения производительности или долговечности.
2. Типы используемых материалов
При термическом испарении обычно используются металлы, в том числе золото, серебро, титан и медь. Эти материалы выбирают за их проводимость, ковкость и устойчивость к коррозии.
Полупроводники, такие как диоксид кремния, используются в приложениях, требующих особых электрических свойств.
Тугоплавкие металлы, такие как вольфрам и молибден, используются благодаря высоким температурам плавления и долговечности при сильном нагреве.
3. Методы нагрева
Испарение с резистивным нагревом предполагает нагрев материала в тигле с резистивным нагревом, при этом пар конденсируется на подложке.
Электронно-лучевое испарение использует пучок электронов, сфокусированный на материале, что приводит к быстрому нагреву и испарению.
Вспышечное испарение быстро нагревает материал до температуры испарения с помощью сильноточного импульса или интенсивного источника тепла.
Индукционный нагрев При испарении в исходном материале индуцируются токи, что приводит к нагреву и испарению.
4. Обзор процесса
При термическом испарении твердый материал нагревается в высоковакуумной камере до кипения и испарения с образованием пара под давлением.
Этот пар образует облако, которое перемещается по камере и оседает на подложке в виде тонкой пленки.
Вакуумная среда обеспечивает движение потока пара без реакции или рассеяния на других атомах.
5. Применение в различных отраслях промышленности
Термическое испарение используется в различных отраслях промышленности благодаря своей точности и надежности при создании тонких пленок.
Продолжайте изучать, проконсультируйтесь с нашими специалистами
Повысьте эффективность процессов термического испарения с помощью передовых источников и материалов KINTEK SOLUTION.
Оцените точность и надежность наших высококачественных источников из вольфрама, тантала и молибдена, тщательно разработанных для оптимизации нагрева и испарения в условиях высокого вакуума.
От прочных лодочек до стержней с покрытием - наш широкий выбор материалов для металлов, полупроводников и тугоплавких металлов обеспечивает непревзойденную производительность.
Присоединяйтесь к передовым технологиям осаждения с KINTEK SOLUTION - где инновации сочетаются с точностью в каждом источнике испарения и материале.
