Знание Что такое напряжение в напыленных тонких пленках? 5 ключевых факторов, которые необходимо учитывать
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 3 месяца назад

Что такое напряжение в напыленных тонких пленках? 5 ключевых факторов, которые необходимо учитывать

Понимание напряжений в напыленных тонких пленках имеет решающее значение для обеспечения их целостности и работоспособности.

На напряжение в таких пленках в первую очередь влияют несколько факторов, включая параметры процесса осаждения, свойства материала и взаимодействие между пленкой и подложкой.

5 ключевых факторов, которые необходимо учитывать

Что такое напряжение в напыленных тонких пленках? 5 ключевых факторов, которые необходимо учитывать

1. Свойства материала

Напряжение в тонких пленках можно рассчитать по формуле:

σ = E x α x (T - T0)

  • σ напряжение в тонкой пленке.
  • E модуль Юнга материала тонкой пленки, который определяет жесткость материала.
  • α коэффициент теплового расширения тонкопленочного материала, показывающий, насколько сильно расширяется или сжимается материал при изменении температуры.
  • T температура подложки во время осаждения.
  • T0 коэффициент теплового расширения материала подложки.

Эта формула показывает, что напряжение в тонкой пленке прямо пропорционально произведению модуля Юнга и разницы в тепловом расширении между пленкой и подложкой, увеличенному на разницу температур во время осаждения.

2. Параметры процесса осаждения

Сам процесс осаждения играет решающую роль в определении уровня напряжений в тонких пленках.

Напыление, являясь плазменным процессом, предполагает попадание на поверхность растущей пленки не только нейтральных атомов, но и заряженных частиц.

Отношение потока ионов к потоку атомов (Ji/Ja) существенно влияет на микроструктуру и морфологию пленки, что, в свою очередь, влияет на остаточные напряжения.

Сильная ионная бомбардировка может привести к увеличению напряжений из-за дополнительной энергии, передаваемой пленке.

3. Скорость осаждения

Скорость осаждения, контролируемая такими параметрами, как мощность и давление, влияет на однородность и толщину пленки, что может влиять на напряжение.

Высокая скорость осаждения может привести к увеличению напряжения из-за быстрого наращивания пленки и потенциального несоответствия решетки подложки.

4. Дефекты пленки

Дефекты пленки, такие как включения нежелательных газов или неравномерный рост зерен, также могут способствовать возникновению напряжений.

Эти дефекты могут создавать локальные точки напряжения, которые при неправильном управлении могут привести к растрескиванию или расслоению.

5. Взаимодействие между пленкой и подложкой

Взаимодействие между пленкой и подложкой - еще один критический фактор.

Управление этими факторами путем тщательного выбора параметров осаждения и послеосадительной обработки имеет решающее значение для контроля напряжений и обеспечения целостности и работоспособности тонких пленок.

Продолжайте исследовать, обратитесь к нашим экспертам

Узнайте, какKINTEK SOLUTION передовые материалы и современные технологии напыления помогут вам точно и уверенно минимизировать напряжение в тонких пленках.

Наши специализированные инструменты и знания обеспечивают оптимальные настройки осаждения, от контроля мощности и давления до управления тепловым расширением и взаимодействием с подложкой.

Сделайте первый шаг к улучшению целостности тонких пленок - свяжитесь с нами сегодня и повысьте эффективность своих исследований и производственных процессов.

Связанные товары

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Печь для искрового плазменного спекания SPS-печь

Печь для искрового плазменного спекания SPS-печь

Откройте для себя преимущества печей искрового плазменного спекания для быстрой низкотемпературной подготовки материалов. Равномерный нагрев, низкая стоимость и экологичность.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Мишень для распыления олова высокой чистоты (Sn) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления олова высокой чистоты (Sn) / порошок / проволока / блок / гранула

Ищете высококачественные материалы на основе олова (Sn) для лабораторного использования? Наши специалисты предлагают индивидуальные оловянные (Sn) материалы по разумным ценам. Ознакомьтесь с нашим ассортиментом спецификаций и размеров уже сегодня!

Мишень для распыления сульфида цинка (ZnS) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления сульфида цинка (ZnS) / порошок / проволока / блок / гранула

Получите доступные по цене материалы на основе сульфида цинка (ZnS) для нужд вашей лаборатории. Мы производим и настраиваем материалы ZnS различной чистоты, формы и размера. Выбирайте из широкого спектра мишеней для распыления, материалов для покрытий, порошков и многого другого.

Мишень для распыления сульфида олова (SnS2) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления сульфида олова (SnS2) / порошок / проволока / блок / гранула

Найдите высококачественные материалы на основе сульфида олова (SnS2) для своей лаборатории по доступным ценам. Наши специалисты производят и изготавливают материалы в соответствии с вашими конкретными потребностями. Ознакомьтесь с нашим ассортиментом мишеней для распыления, материалов для покрытий, порошков и многого другого.

Окно из сульфида цинка (ZnS) / соляной лист

Окно из сульфида цинка (ZnS) / соляной лист

Оптика Окна из сульфида цинка (ZnS) имеют превосходный диапазон пропускания ИК-излучения от 8 до 14 микрон. Отличная механическая прочность и химическая инертность для суровых условий (жестче, чем окна из ZnSe).

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Сапфировый лист с инфракрасным пропусканием / сапфировая подложка / сапфировое окно

Сапфировый лист с инфракрасным пропусканием / сапфировая подложка / сапфировое окно

Изготовленная из сапфира подложка обладает беспрецедентными химическими, оптическими и физическими свойствами. Его замечательная устойчивость к тепловым ударам, высоким температурам, эрозии песка и воде отличает его.

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.

Вакуумная трубчатая печь горячего прессования

Вакуумная трубчатая печь горячего прессования

Уменьшите давление формования и сократите время спекания с помощью вакуумной трубчатой печи для горячего прессования высокоплотных и мелкозернистых материалов. Идеально подходит для тугоплавких металлов.

Испарение электронного луча покрывая вольфрамовый тигель/тигель молибдена

Испарение электронного луча покрывая вольфрамовый тигель/тигель молибдена

Вольфрамовые и молибденовые тигли широко используются в процессах электронно-лучевого испарения благодаря их превосходным термическим и механическим свойствам.

Вакуумная печь для спекания под давлением

Вакуумная печь для спекания под давлением

Вакуумные печи для спекания под давлением предназначены для высокотемпературного горячего прессования при спекании металлов и керамики. Его расширенные функции обеспечивают точный контроль температуры, надежное поддержание давления, а прочная конструкция обеспечивает бесперебойную работу.

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.


Оставьте ваше сообщение