Напыление - это физический процесс, используемый в химии и материаловедении для нанесения тонких пленок на подложку. Он включает в себя выброс атомов из твердого материала мишени в результате бомбардировки энергичными ионами, как правило, в вакуумной среде. Эти выброшенные атомы затем перемещаются и прилипают к подложке, образуя тонкую пленку с определенными свойствами.
Подробное объяснение:
-
Вакуумная среда и образование плазмы:
-
Напыление происходит в вакуумной камере, куда подается контролируемый газ, обычно аргон. Газ ионизируется электрическим разрядом, создавая плазму. В этой плазме атомы аргона теряют электроны и превращаются в положительно заряженные ионы.Ионная бомбардировка мишени:
-
Положительно заряженные ионы аргона ускоряются по направлению к катоду (мишени) под действием электрического поля. Мишень изготовлена из материала, который должен быть нанесен на подложку. Когда эти энергичные ионы сталкиваются с мишенью, они передают свою кинетическую энергию атомам мишени, в результате чего некоторые из них выбрасываются с ее поверхности.
-
Выброс и осаждение атомов мишени:
-
Выброшенные атомы, называемые адатомами, образуют поток пара, проходящий через вакуумную камеру. Затем эти атомы ударяются о подложку, прилипают к ее поверхности и образуют тонкую пленку. Этот процесс отличается точностью, что позволяет создавать пленки с определенными свойствами, такими как отражательная способность, электропроводность или сопротивление.Характеристики осажденной пленки:
В результате процесса напыления получается однородная, очень тонкая и прочно связанная с подложкой пленка. Это происходит потому, что осаждение происходит на атомном уровне, обеспечивая практически неразрывную связь между пленкой и подложкой.
