Рентгенофлуоресцентный анализ, или рентгенофлуоресцентный анализ, - это неразрушающий аналитический метод, используемый для определения элементного состава материалов. Он основан на облучении образца высокоэнергетическими рентгеновскими лучами, в результате чего атомы в образце возбуждаются и испускают вторичные, или флуоресцентные, рентгеновские лучи. Каждый элемент излучает уникальный спектр флуоресцентных рентгеновских лучей, который может быть проанализирован для идентификации и количественного определения элементов, присутствующих в образце.
Подготовка образца:
Процесс начинается с подготовки образца. В зависимости от характера материала образец может быть извлечен из поверхностных слоев сыпучего материала или взят в виде фрагмента и гомогенизирован в тонкий порошок. Для более сложных образцов можно использовать щековую дробилку для гомогенизации. Затем образец обычно формируется в гранулы с помощью гидравлического пресса, что помогает сохранить целостность образца во время анализа. В некоторых случаях для ускорения процесса пробоподготовки может использоваться автоматическое оборудование для взвешивания и дозирования.Анализ с помощью рентгенофлуоресцентного спектрометра:
Подготовленный образец анализируется с помощью рентгенофлуоресцентного спектрометра, состоящего из источника рентгеновского излучения и детектора. Источник рентгеновского излучения генерирует высокоэнергетические рентгеновские лучи, которые направляются на образец. Когда эти рентгеновские лучи взаимодействуют с образцом, они заставляют атомы испускать флуоресцентные рентгеновские лучи. Детектор улавливает эти флуоресцентные рентгеновские лучи и генерирует спектр, в котором отображаются пики, соответствующие различным элементам в образце. Высота этих пиков указывает на концентрацию каждого элемента.
Интерпретация результатов:
Спектр, генерируемый спектрометром XRF, анализируется для определения присутствующих элементов и их соответствующих концентраций. Диапазон элементов, обнаруживаемых методом XRF, обычно простирается от натрия (Na) до урана (U), при этом уровни обнаружения зависят от конкретного прибора и наличия электронных орбиталей в образце.Важность подготовки пробы:
