Знание Каков принцип работы напыляющего устройства для РЭМ?
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 1 неделю назад

Каков принцип работы напыляющего устройства для РЭМ?

Напыление для РЭМ подразумевает нанесение тонкого проводящего слоя материала на образец для улучшения его проводимости, уменьшения эффекта электрического заряда и усиления вторичной эмиссии электронов. Это достигается с помощью процесса, называемого напылением, когда тлеющий разряд между катодом и анодом в газовой среде (обычно аргон) размывает материал катодной мишени (обычно золото или платину). Распыленные атомы равномерно оседают на поверхности образца, подготавливая его к анализу в сканирующем электронном микроскопе.

Процесс напыления:

Процесс напыления начинается с образования тлеющего разряда между катодом (содержащим материал мишени) и анодом в камере, заполненной газом аргоном. Газ аргон ионизируется, образуя положительно заряженные ионы аргона. Эти ионы ускоряются по направлению к катоду под действием электрического поля, и при столкновении они выбивают атомы с поверхности катода за счет передачи импульса. Эта эрозия материала катода известна как распыление.Осаждение распыленных атомов:

Распыленные атомы движутся во всех направлениях и в конце концов оседают на поверхности образца, расположенного вблизи катода. Как правило, это осаждение происходит равномерно, образуя тонкий проводящий слой. Равномерность покрытия имеет решающее значение для РЭМ-анализа, так как обеспечивает равномерное покрытие поверхности образца, снижая риск заряда и усиливая эмиссию вторичных электронов.

Преимущества для РЭМ:

Токопроводящий слой, обеспечиваемый напылением, помогает рассеивать накопление заряда, вызванное электронным пучком в РЭМ, что особенно важно для непроводящих образцов. Он также улучшает выход вторичных электронов, что приводит к повышению контрастности и разрешения изображений. Кроме того, покрытие может защитить образец от термического повреждения, отводя тепло от поверхности.Технологические усовершенствования:

Связанные товары

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

Электронно-лучевое напыление покрытия бескислородного медного тигля

При использовании методов электронно-лучевого испарения использование тиглей из бескислородной меди сводит к минимуму риск загрязнения кислородом в процессе испарения.

Печь для искрового плазменного спекания SPS-печь

Печь для искрового плазменного спекания SPS-печь

Откройте для себя преимущества печей искрового плазменного спекания для быстрой низкотемпературной подготовки материалов. Равномерный нагрев, низкая стоимость и экологичность.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Мишень для распыления кобальта (Co) высокой чистоты / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления кобальта (Co) высокой чистоты / порошок / проволока / блок / гранула

Получите доступные по цене материалы на основе кобальта (Co) для лабораторного использования, адаптированные к вашим уникальным потребностям. Наш ассортимент включает мишени для распыления, порошки, фольгу и многое другое. Свяжитесь с нами сегодня для индивидуальных решений!

Мишень для распыления селена (Se) высокой чистоты / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления селена (Se) высокой чистоты / порошок / проволока / блок / гранула

Ищете доступные материалы с селеном (Se) для лабораторного использования? Мы специализируемся на производстве и пошиве материалов различной чистоты, форм и размеров в соответствии с вашими уникальными требованиями. Ознакомьтесь с нашим ассортиментом мишеней для распыления, материалов для покрытий, порошков и многого другого.

Мишень для распыления теллурида кобальта (CoTe) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления теллурида кобальта (CoTe) / порошок / проволока / блок / гранула

Приобретайте высококачественные материалы на основе теллурида кобальта для нужд вашей лаборатории по разумным ценам. Мы предлагаем индивидуальные формы, размеры и чистоту, включая мишени для распыления, покрытия, порошки и многое другое.

Мишень для распыления сульфида олова (SnS2) / порошок / проволока / блок / гранула

Мишень для распыления сульфида олова (SnS2) / порошок / проволока / блок / гранула

Найдите высококачественные материалы на основе сульфида олова (SnS2) для своей лаборатории по доступным ценам. Наши специалисты производят и изготавливают материалы в соответствии с вашими конкретными потребностями. Ознакомьтесь с нашим ассортиментом мишеней для распыления, материалов для покрытий, порошков и многого другого.

Селенид цинка (ZnSe) распыляемая мишень/порошок/проволока/блок/гранулы

Селенид цинка (ZnSe) распыляемая мишень/порошок/проволока/блок/гранулы

Ищете материалы на основе селенида цинка (ZnSe) для своей лаборатории? Наши доступные цены и продуманные до мелочей варианты делают нас идеальным выбором. Ознакомьтесь с нашим широким ассортиментом спецификаций и размеров уже сегодня!

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Вакуумная печь для спекания под давлением

Вакуумная печь для спекания под давлением

Вакуумные печи для спекания под давлением предназначены для высокотемпературного горячего прессования при спекании металлов и керамики. Его расширенные функции обеспечивают точный контроль температуры, надежное поддержание давления, а прочная конструкция обеспечивает бесперебойную работу.


Оставьте ваше сообщение