CVD-алмаз, или алмаз химического осаждения из паровой фазы, - это тип выращенного в лаборатории алмаза, созданного с помощью химического процесса под низким давлением. Этот метод предполагает использование алмазных семян, которые подвергаются определенным химическим реакциям для нанесения слоя алмаза на подложку.
Процесс создания:
Процесс CVD начинается с подложки, часто представляющей собой тонкий срез алмаза, на который осаждается алмазный материал. Процесс включает в себя введение газа, обычно смеси метана и водорода, в реакционную камеру. В контролируемых условиях, включая низкое давление и высокую температуру, газы ионизируются до состояния плазмы. В этом состоянии атомы углерода отделяются от молекул газа и оседают на подложке, соединяясь в форме алмаза.Разновидности методов CVD:
- Существует несколько типов CVD-методов, включая:
- Химическое парофазное разложение с усилением плазмы (PECVD): Использует плазму для усиления химической реакции.
- Микроволновое плазменное химическое парофазное разложение (MPCVD): Используется микроволновая энергия для создания плазмы.
- Химическое паровое разложение при низком давлении (LPCVD): Работает в условиях очень низкого давления.
Химическое разложение паров в сверхвысоком вакууме (UHVCVD): Проводится в условиях сверхвысокого вакуума для точного контроля.
Характеристики и обработка после выращивания:
CVD-бриллианты могут расти очень быстро, что может привести к появлению менее желательных характеристик, таких как зернистость, точечные включения и коричневые оттенки. Эти недостатки можно смягчить или улучшить с помощью обработки после выращивания, например обработки высоким давлением и высокой температурой (HPHT). Однако такая обработка может привести к появлению новых проблем, например молочности. Часто рекомендуется выбирать бриллианты CVD, которые не подвергались такой обработке, чтобы получить более естественный вид.Сравнение с бриллиантами HPHT:
Хотя и CVD, и HPHT являются методами создания выращенных в лаборатории бриллиантов, они значительно отличаются друг от друга. HPHT воспроизводит естественный процесс образования алмазов при экстремальном давлении и температуре, в то время как CVD работает при низком давлении и включает химические реакции.
Приложения и рынок: