Катодное распыление - это процесс осаждения тонких пленок, при котором твердая мишень подвергается бомбардировке высокоэнергетическими ионами. Этот процесс осуществляется путем создания тлеющего разряда между двумя электродами в разреженной атмосфере в условиях вакуума. Этими двумя электродами являются мишень (катод) и подложка (анод).
При катодном напылении для создания разряда между электродами прикладывается поле постоянного тока. При введении инертного газа, обычно аргона, образуется плазма за счет ионизации газа. Затем положительно заряженные ионы аргона ускоряются по направлению к отрицательно заряженной мишени (катоду), что приводит к распылению материала катода.
Напыленный материал в виде атомов или молекул осаждается на подложку, образуя тонкую пленку или покрытие. Толщина осажденного материала обычно составляет от 0,00005 до 0,01 мм. В качестве мишеней обычно используются такие материалы, как хром, титан, алюминий, медь, молибден, вольфрам, золото и серебро.
Напыление - это процесс травления, изменяющий физические свойства поверхности. Он может применяться в различных областях, включая нанесение покрытий на подложки для повышения электропроводности, уменьшения термического повреждения, усиления вторичной эмиссии электронов и получения тонких пленок для сканирующей электронной микроскопии.
Метод напыления предполагает введение управляемого газа, обычно аргона, в вакуумную камеру. На катод, или мишень, подается электрический ток, в результате чего образуется самоподдерживающаяся плазма. Атомы газа в плазме, теряя электроны, превращаются в положительно заряженные ионы, которые затем ускоряются по направлению к мишени. В результате удара атомы или молекулы материала мишени смещаются, образуя поток паров. Напыляемый материал проходит через камеру и осаждается на подложку в виде пленки или покрытия.
В системе напыления катод является мишенью газового разряда, а подложка выступает в качестве анода. Энергичные ионы, обычно ионы аргона, бомбардируют мишень, вызывая выброс атомов мишени. Затем эти атомы попадают на подложку, формируя покрытие.
Напыление на постоянном токе - это особый вид катодного напыления, в котором используется газообразный разряд постоянного тока. Мишень служит источником осаждения, подложка и стенки вакуумной камеры могут выступать в качестве анода, а источником питания является высоковольтный источник постоянного тока.
Ищете высококачественное оборудование для катодного напыления для своей лаборатории или исследовательского центра? Обратите внимание на компанию KINTEK! Наше современное оборудование предназначено для точного и эффективного напыления, позволяющего с легкостью осаждать тонкие пленки. Если Вам необходимо напыление для электронной микроскопии или для других целей, наше оборудование удовлетворит Ваши потребности. Не идите на компромисс с качеством - выбирайте KINTEK для удовлетворения всех Ваших потребностей в катодном напылении. Свяжитесь с нами сегодня, чтобы получить дополнительную информацию и индивидуальное предложение!
