Методы нанесения покрытий на твердосплавные вставки в основном включают химическое осаждение из паровой фазы (CVD) и другие родственные методы, такие как плазменно-активированное CVD (PACVD). Эти методы улучшают эксплуатационные характеристики пластин, обеспечивая повышенную твердость, износостойкость и долговечность.
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD):
CVD - это широко используемый метод нанесения покрытий на твердосплавные вставки. В этом процессе вставки подвергаются воздействию одного или нескольких летучих прекурсоров, которые вступают в реакцию и/или разлагаются, образуя тонкую пленку на поверхности подложки. Этот метод известен своей способностью создавать высококачественные, высокопроизводительные покрытия с низкой пористостью и высокой износостойкостью. К числу распространенных покрытий, наносимых методом CVD, относятся нитрид титана (TiN), нитрид углерода титана (TiCN) и оксид алюминия. Эти материалы повышают твердость и износостойкость пластин, тем самым увеличивая срок службы инструмента и производительность при обработке металлов резанием.Плазменно-активированное CVD (PACVD):
Альтернативой традиционному термическому CVD является метод PACVD, в котором для осаждения плотных тонких пленок используется плазменная активация газов-предшественников. Этот метод может работать при более низких температурах (200-300 °C), что позволяет ограничить влияние искажения размеров на стальные инструменты. PACVD особенно полезен для осаждения пленок на широкий спектр материалов подложек и может улучшить адгезию таких покрытий, как алмазоподобный углерод (DLC), на стальных и твердых металлических подложках.
Методы нанесения углеродных покрытий:
Углеродные покрытия на твердосплавных вставках также изучаются для улучшения химической стабильности поверхности, структурной стабильности и способности к диффузии литий-ионов. Эти покрытия могут наноситься с помощью мокрых химических методов (таких как гидротермальный/сольвотермальный, золь-гель и химическая полимеризация) или методов сушки. Выбор метода зависит от конкретных требований к структуре материала катода и желаемых свойств слоя покрытия.
Процесс термического напыления покрытия из карбида вольфрама:
