Основное различие между напылением и импульсным лазерным осаждением (PLD) заключается в способе переноса материала с мишени на подложку. Напыление предполагает использование высокоэнергетических ионов для сбивания атомов с материала мишени, которые затем осаждаются на подложку. В PLD, напротив, используется высокоэнергетический лазерный импульс для выжигания материала из мишени, который затем конденсируется на подложке.
Напыление:
При напылении процесс начинается с генерации ионов, обычно из газообразного аргона, которые затем направляются на материал мишени. Под воздействием этих высокоэнергетических ионов атомы из мишени выбрасываются или "распыляются". Эти распыленные атомы проходят через область пониженного давления и в конечном итоге конденсируются на подложке, образуя тонкую пленку. Напыление выгодно тем, что позволяет осаждать пленку равномерной толщины на больших площадях и легко контролировать толщину пленки, регулируя рабочие параметры и время осаждения.Импульсное лазерное осаждение (PLD)
:PLD, с другой стороны, предполагает использование высокоинтенсивного импульсного лазерного луча, сфокусированного на материале мишени. Интенсивная энергия лазерного импульса заставляет небольшую часть материала испаряться, создавая шлейф материала, включающий атомы, молекулы и кластеры. Этот шлейф направляется непосредственно на подложку, где конденсируется и образует пленку. PLD особенно полезна для осаждения сложных материалов с высокой точностью, поскольку процесс абляции может перенести стехиометрию целевого материала на осажденную пленку.
Сравнение и применение
:
