Блог

Руководство по выбору нагревательных элементов и изоляционных экранов для эффективной работы вакуумной печи.

В этой статье рассматриваются различные проблемы и решения, связанные с отказами печей для вакуумного спекания.

Обзор работы и компонентов вакуумной печи горячего прессования для спекания с акцентом на ее применение для получения высокотемпературной износостойкой керамики.

Ответы на распространенные вопросы об обслуживании, устранении неисправностей и работе вакуумных печей.

Рассматриваются преимущества вакуумных печей для спекания с акцентом на снижение содержания вредных компонентов, улучшение свойств материалов и снижение требований к температуре.

Узнайте о преимуществах, типах и критериях выбора вакуумных печей для спекания.

Подробные шаги и меры предосторожности при эксплуатации вакуумной печи для спекания.

Руководство по выявлению и устранению распространенных проблем с вакуумными печами, включая электрические и механические неисправности.

Обзор различных типов вакуумных печей и их использования в различных промышленных процессах.

Руководство по выбору трубчатой печи с учетом температуры, размера образца, температурных зон, функций и вакуумных систем.

Изучение проблем и решений для трубчатого PECVD при работе с кремниевыми пластинами большого размера.

Углубленное изучение процессов PECVD для TiN и Si3N4, включая настройку оборудования, этапы работы и ключевые параметры процесса.

В этой статье рассматриваются распространенные причины переделок при нанесении покрытий методом PECVD на кристаллические кремниевые солнечные элементы и предлагаются возможные решения для повышения качества и снижения затрат.

Анализирует общие проблемы нанесения покрытий PECVD на солнечные элементы и предлагает решения для повышения качества и снижения затрат.

Объясняется механизм образования всплесков пленки при PECVD-осаждении аморфного кремния и решения для его предотвращения.

Рассматриваются основные препятствия на пути развития и применения технологии нанопокрытий PECVD.

Руководство по настройке и оптимизации процессов PECVD для получения высококачественных пленок оксида и нитрида кремния в устройствах MEMS.

Исследование использования графитовых лодочек в PECVD для эффективного покрытия ячеек.

Рассматриваются концепция, характеристики и эффекты тлеющего разряда в PECVD для осаждения пленок.

Обзор процессов PECVD, структуры оборудования и общих проблем, с акцентом на различные типы PECVD и их применение.

Технология нанопокрытий PECVD повышает долговечность и надежность различных электронных устройств.

Рассматриваются различные области применения нанопокрытий методом PECVD, включая гидроизоляционные, антикоррозионные, антибактериальные, гидрофильные и износостойкие пленки.

В этой статье рассматривается применение углеродных покрытий для улучшения характеристик анодных материалов на основе кремния в литий-ионных аккумуляторах.

В этой статье рассматриваются ключевые технические аспекты кремний-углеродных анодных материалов, полученных методом CVD, с акцентом на их синтез, улучшение характеристик и потенциал промышленного применения.

Рассматривается потенциал анодов на основе кремния с акцентом на технологию осаждения из паровой фазы и ее влияние на производительность и стоимость батарей.

Обзор процесса CVD, компонентов и систем для осаждения тонких пленок.

Подробное сравнение технологий LPCVD, PECVD и ICPCVD с упором на принципы, особенности, преимущества и недостатки.

Рассматриваются эволюция, методы и области применения технологии вакуумного нанесения покрытий с акцентом на PVD и ее влияние на промышленные инструменты и пресс-формы.

Анализ влияния различных процессов подготовки пленки нитрида кремния на точность контроля толщины при производстве полупроводников.

В этой статье рассматриваются методы получения графена с акцентом на технологию CVD, методы ее переноса и будущие перспективы.