Знание Как производится однослойный графен? 5 ключевых этапов
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 4 недели назад

Как производится однослойный графен? 5 ключевых этапов

Однослойный графен получают в основном с помощью процесса, известного как химическое осаждение из паровой фазы (CVD).

Этот метод подразумевает контролируемое осаждение атомов углерода на подложку, обычно медную фольгу, при определенных условиях температуры, потока газа и давления.

Процесс тщательно регулируется, чтобы обеспечить формирование однородного монослоя графена с минимальным количеством дефектов.

Объяснение 5 ключевых этапов

Как производится однослойный графен? 5 ключевых этапов

1. Настройка процесса CVD

В CVD-процессе синтеза графена в качестве источников газа обычно используются метан (CH4) и водород (H2).

Эти газы вводятся в CVD-реактор, где в качестве подложки используется медная фольга.

Медь выбрана потому, что она обладает высокой растворимостью для углерода, что способствует образованию графена.

2. Контроль температуры и потока газа

Температура в реакторе тщательно контролируется и часто составляет от 900 до 1000 градусов Цельсия.

Такая высокая температура способствует диссоциации метана на атомы углерода и водорода.

Водород выступает в качестве восстановителя, а атомы углерода осаждаются на медной поверхности.

Скорость потока газа также имеет решающее значение, влияя на скорость осаждения углерода и качество образующегося графена.

3. Формирование графена

По мере осаждения атомов углерода на медь они выстраиваются в гексагональную решетчатую структуру, характерную для графена.

Процесс контролируется, чтобы обеспечить формирование только одного слоя графена.

Это достигается путем оптимизации скорости охлаждения и общих параметров процесса, чтобы предотвратить образование дополнительных слоев.

4. Селективное удаление многослойного графена

Для обеспечения чистоты однослойного графена применяются такие методы, как использование поглощающей углерод вольфрамовой (W) фольги, заключенной в медную фольгу.

Этот метод позволяет избирательно удалять двух- или трехслойный графен, оставляя нетронутым однослойный графен.

5. Перенос на желаемые подложки

После того как графен выращен, часто возникает необходимость перенести его на другие подложки для различных применений.

Этот процесс переноса должен быть выполнен аккуратно, чтобы избежать появления дефектов или загрязнений.

В зависимости от требований конкретной задачи используются такие методы, как перенос на растворенную подложку или перенос на разделенную подложку.

Продолжайте исследовать, проконсультируйтесь с нашими специалистами

Откройте для себя будущее материаловедения вместе с KINTEK SOLUTION. Наша передовая технология химического осаждения из паровой фазы (CVD) революционизирует производство однослойного графена, обеспечивая непревзойденную однородность и качество.

Повысьте уровень ваших исследований и разработок с помощью наших современных CVD-систем, предназначенных для превосходного роста графеновых пленок. Оцените разницу в точности и производительности с KINTEK SOLUTION - где инновации встречаются с практикой.

Свяжитесь с нами сегодня, чтобы узнать о безграничных возможностях графена в электронике, оптике и многом другом!

Связанные товары

CVD-алмазное покрытие

CVD-алмазное покрытие

Алмазное покрытие CVD: превосходная теплопроводность, качество кристаллов и адгезия для режущих инструментов, трения и акустических применений.

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Плазменное осаждение с расширенным испарением PECVD машина покрытия

Усовершенствуйте свой процесс нанесения покрытий с помощью оборудования для нанесения покрытий методом PECVD. Идеально подходит для производства светодиодов, силовых полупроводников, МЭМС и многого другого. Осаждает высококачественные твердые пленки при низких температурах.

CVD-алмаз, легированный бором

CVD-алмаз, легированный бором

Алмаз, легированный CVD бором: универсальный материал, обеспечивающий индивидуальную электропроводность, оптическую прозрачность и исключительные тепловые свойства для применения в электронике, оптике, сенсорных и квантовых технологиях.

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для терморегулирования

CVD-алмаз для управления температурным режимом: высококачественный алмаз с теплопроводностью до 2000 Вт/мК, идеально подходящий для теплоотводов, лазерных диодов и приложений GaN на алмазе (GOD).

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Цилиндрический резонатор MPCVD алмазной установки для выращивания алмазов в лаборатории

Узнайте о машине MPCVD с цилиндрическим резонатором - методе микроволнового плазмохимического осаждения из паровой фазы, который используется для выращивания алмазных камней и пленок в ювелирной и полупроводниковой промышленности. Узнайте о его экономически эффективных преимуществах по сравнению с традиционными методами HPHT.

Тигель для выпаривания графита

Тигель для выпаривания графита

Сосуды для высокотемпературных применений, где материалы выдерживаются при чрезвычайно высоких температурах для испарения, что позволяет наносить тонкие пленки на подложки.

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

Радиочастотная система PECVD Радиочастотное осаждение из паровой фазы с усилением плазмы

RF-PECVD - это аббревиатура от "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". С его помощью на германиевые и кремниевые подложки наносится пленка DLC (алмазоподобного углерода). Он используется в инфракрасном диапазоне длин волн 3-12um.

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Графитовый тигель для электронно-лучевого испарения

Технология, в основном используемая в области силовой электроники. Это графитовая пленка, изготовленная из исходного углеродного материала путем осаждения материала с использованием электронно-лучевой технологии.

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Колокольный резонатор MPCVD Машина для лаборатории и выращивания алмазов

Получите высококачественные алмазные пленки с помощью нашей машины MPCVD с резонатором Bell-jar Resonator, предназначенной для лабораторного выращивания и выращивания алмазов. Узнайте, как микроволновое плазменно-химическое осаждение из паровой фазы работает для выращивания алмазов с использованием углекислого газа и плазмы.

Углеродно-графитовая пластина - изостатическая

Углеродно-графитовая пластина - изостатическая

Изостатический углеродный графит прессуется из графита высокой чистоты. Это отличный материал для изготовления сопел ракет, материалов для замедления и отражающих материалов для графитовых реакторов.

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Вытяжная матрица с наноалмазным покрытием Оборудование HFCVD

Фильера для нанесения наноалмазного композитного покрытия использует цементированный карбид (WC-Co) в качестве подложки, а для нанесения обычного алмаза и наноалмазного композитного покрытия на поверхность внутреннего отверстия пресс-формы используется метод химической паровой фазы (сокращенно CVD-метод).

Экспериментальная печь для графитации IGBT

Экспериментальная печь для графитации IGBT

Экспериментальная печь графитации IGBT — специальное решение для университетов и исследовательских институтов, отличающееся высокой эффективностью нагрева, удобством использования и точным контролем температуры.

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью

Печь для графитизации пленки с высокой теплопроводностью имеет равномерную температуру, низкое энергопотребление и может работать непрерывно.

Горизонтальная высокотемпературная печь графитации

Горизонтальная высокотемпературная печь графитации

Горизонтальная печь графитации. В конструкции печи этого типа нагревательные элементы расположены горизонтально, что обеспечивает равномерный нагрев образца. Он хорошо подходит для графитации больших или объемных образцов, требующих точного контроля температуры и однородности.

Печь для графитизации негативного материала

Печь для графитизации негативного материала

Печь графитации для производства аккумуляторов имеет равномерную температуру и низкое энергопотребление. Печь для графитации материалов отрицательных электродов: эффективное решение для графитации при производстве аккумуляторов и расширенные функции для повышения производительности аккумуляторов.

Большая вертикальная печь графитации

Большая вертикальная печь графитации

Большая вертикальная высокотемпературная печь для графитации — это тип промышленной печи, используемой для графитации углеродных материалов, таких как углеродное волокно и технический углерод. Это высокотемпературная печь, которая может достигать температуры до 3100°C.

Сверхвысокотемпературная печь графитации

Сверхвысокотемпературная печь графитации

В печи для сверхвысокой температуры графитации используется среднечастотный индукционный нагрев в вакууме или среде инертного газа. Индукционная катушка создает переменное магнитное поле, индуцирующее вихревые токи в графитовом тигле, которые нагреваются и излучают тепло к заготовке, доводя ее до нужной температуры. Эта печь в основном используется для графитации и спекания углеродных материалов, материалов из углеродного волокна и других композитных материалов.

Печь непрерывной графитации

Печь непрерывной графитации

Печь высокотемпературной графитации — профессиональное оборудование для графитационной обработки углеродных материалов. Это ключевое оборудование для производства высококачественной графитовой продукции. Он имеет высокую температуру, высокую эффективность и равномерный нагрев. Подходит для различных высокотемпературных обработок и графитации. Он широко используется в металлургии, электронной, аэрокосмической и т. д. промышленности.


Оставьте ваше сообщение