Продукты Лабораторные расходные материалы и материалы Материал ПТФЭ Полка для очистки проводящей стеклянной подложки из ПТФЭ
Категории
Категории
Полка для очистки проводящей стеклянной подложки из ПТФЭ

Материал ПТФЭ

Полка для очистки проводящей стеклянной подложки из ПТФЭ

Артикул : PTFE-03

Цена может варьироваться в зависимости от спецификации и настройки


Материал
Политетрафторэтилен (ПТФЭ)
Спецификация
Посмотреть форму
ISO & CE icon

Доставка:

Свяжитесь с нами чтобы получить подробности о доставке. Наслаждайтесь Гарантия своевременной отправки.

Оставить сообщение Быстрое получение цены Via Онлайн чат

Приложение

Используется для очистки и коррозии оборудования для полупроводниковых кремниевых пластин, кремниевых пластин, стекла, жидкокристаллических экранов и т. д., цветка солнечного элемента синего цвета, синей кремниевой пластины солнечной батареи, синего носителя кремниевой пластины солнечной батареи, синего фотоэлектрического элемента, синего фотоэлектрического кремниевой пластины, используется для очистки оборудования для кремниевые пластины солнечных элементов, используемые для переноски квадратных кремниевых пластин солнечных элементов, а материал - ПТФЭ. Этот продукт очищает и преобразует кремниевые пластины в раствор NaOH, раствор HCl, HF и другие растворы при температуре ниже 100 ° C. Он не деформирует и не загрязняет кремниевые пластины после длительного использования.

Детали и детали

Полка для очистки проводящей стеклянной подложки из ПТФЭ, деталь 1Полка для очистки проводящей стеклянной подложки из ПТФЭ, деталь 2Полка для очистки проводящей стеклянной подложки из ПТФЭ, деталь 3Полка для очистки проводящей стеклянной подложки из ПТФЭ, деталь 4Полка для очистки проводящей стеклянной подложки из ПТФЭ, деталь 5

Технические характеристики

10×10×1,1 мм 20×20×1,1 мм 25×25×2,2 мм 30×30×2,2 мм
15×15×1,1 мм 25×25×1,1 мм 30×30×1,1 мм

1 дюйм, 2 дюйма, 4 дюйма в диаметре и т. д. (выше указаны размеры стекла или кремниевой пластины), двойные ручки (высота ручки может быть настроена по индивидуальному заказу) для легкого извлечения стеллажей для промывки листов ПТФЭ из стаканов и других контейнеров со стеклом.

Продукты, которые мы показываем, доступны в различных размерах, а нестандартные размеры доступны по запросу.

Преимущества

  • Широкий температурный диапазон: безукоризненно работает в диапазоне от -200°C до +250°C.
  • Исключительная коррозионная стойкость: выдерживает сильные кислоты, щелочи, царскую водку и органические растворители без растворения, адсорбции или осаждения.
  • Значение пустого элемента с низким содержанием металла: минимальный риск загрязнения.
  • Превосходная изоляция: не зависит от факторов окружающей среды и частоты, отличается низкими диэлектрическими потерями и высоким напряжением пробоя.
  • Устойчив к атмосферному старению и радиации.
  • Низкая проницаемость: обеспечивает эффективную защиту и очистку.
  • Самосмазывающийся: имеет наименьший коэффициент трения среди пластиков, что снижает проблемы, связанные с трением.
  • Неадгезивная поверхность: твердый материал с низкой поверхностной энергией, предотвращающий прилипание.
  • Мягкие механические свойства: обеспечивает гибкость и универсальность.

FAQ

Что такое физическое осаждение из паровой фазы (PVD)?

Физическое осаждение из паровой фазы (PVD) — это метод осаждения тонких пленок путем испарения твердого материала в вакууме и последующего осаждения его на подложку. Покрытия PVD отличаются высокой прочностью, устойчивостью к царапинам и коррозии, что делает их идеальными для различных применений, от солнечных элементов до полупроводников. PVD также создает тонкие пленки, способные выдерживать высокие температуры. Однако PVD может быть дорогостоящим, и стоимость варьируется в зависимости от используемого метода. Например, испарение является дешевым методом PVD, а ионно-лучевое распыление довольно дорого. С другой стороны, магнетронное распыление более дорогое, но более масштабируемое.

Что такое RF PECVD?

RF PECVD означает радиочастотное плазменное химическое осаждение из паровой фазы, которое представляет собой метод, используемый для приготовления поликристаллических пленок на подложке с использованием плазмы тлеющего разряда для воздействия на процесс во время химического осаждения из паровой фазы при низком давлении. Метод RF PECVD хорошо зарекомендовал себя для стандартной технологии кремниевых интегральных схем, где в качестве подложек обычно используются плоские пластины. Преимущество этого метода заключается в возможности дешевого изготовления пленки и высокой эффективности осаждения. Материалы также могут быть нанесены в виде пленок с переменным показателем преломления или в виде стопки нанопленок, каждая из которых имеет разные свойства.

Что такое магнетронное распыление?

Магнетронное напыление — это метод нанесения покрытия на основе плазмы, используемый для получения очень плотных пленок с превосходной адгезией, что делает его универсальным методом создания покрытий на материалах с высокой температурой плавления, которые не могут испаряться. Этот метод создает магнитно-удерживаемую плазму вблизи поверхности мишени, где положительно заряженные энергичные ионы сталкиваются с отрицательно заряженным материалом мишени, вызывая выброс или «распыление» атомов. Эти выброшенные атомы затем осаждаются на подложку или пластину для создания желаемого покрытия.

Почему магнетронное распыление?

Магнетронное напыление предпочтительнее из-за его способности достигать высокой точности толщины пленки и плотности покрытий, превосходя методы испарения. Этот метод особенно подходит для создания металлических или изоляционных покрытий с особыми оптическими или электрическими свойствами. Кроме того, системы магнетронного распыления могут быть оснащены несколькими источниками магнетронов.

Какие материалы используются для нанесения тонких пленок?

Для осаждения тонких пленок в качестве материалов обычно используются металлы, оксиды и соединения, каждый из которых имеет свои уникальные преимущества и недостатки. Металлы предпочтительнее из-за их долговечности и простоты нанесения, но они относительно дороги. Оксиды очень прочны, могут выдерживать высокие температуры и могут осаждаться при низких температурах, но могут быть хрупкими и сложными в работе. Соединения обладают прочностью и долговечностью, их можно наносить при низких температурах и придавать им особые свойства.

Выбор материала для тонкопленочного покрытия зависит от требований применения. Металлы идеально подходят для тепло- и электропроводности, а оксиды эффективны для защиты. Соединения могут быть адаптированы для удовлетворения конкретных потребностей. В конечном счете, лучший материал для конкретного проекта будет зависеть от конкретных потребностей приложения.

Каковы методы достижения оптимального осаждения тонкой пленки?

Для получения тонких пленок с желаемыми свойствами необходимы высококачественные мишени для распыления и материалы для испарения. На качество этих материалов могут влиять различные факторы, такие как чистота, размер зерна и состояние поверхности.

Чистота мишеней для распыления или материалов для испарения играет решающую роль, поскольку примеси могут вызывать дефекты в полученной тонкой пленке. Размер зерна также влияет на качество тонкой пленки, при этом более крупные зерна приводят к ухудшению свойств пленки. Кроме того, состояние поверхности имеет решающее значение, так как шероховатая поверхность может привести к дефектам пленки.

Для достижения высочайшего качества мишеней для распыления и материалов для испарения крайне важно выбирать материалы, которые обладают высокой чистотой, малым размером зерна и гладкой поверхностью.

Использование тонкопленочного осаждения

Тонкие пленки на основе оксида цинка

Тонкие пленки ZnO находят применение в нескольких отраслях, таких как термическая, оптическая, магнитная и электрическая, но в основном они используются в покрытиях и полупроводниковых устройствах.

Тонкопленочные резисторы

Тонкопленочные резисторы имеют решающее значение для современных технологий и используются в радиоприемниках, печатных платах, компьютерах, радиочастотных устройствах, мониторах, беспроводных маршрутизаторах, модулях Bluetooth и приемниках сотовых телефонов.

Магнитные тонкие пленки

Тонкие магнитные пленки используются в электронике, хранении данных, радиочастотной идентификации, микроволновых устройствах, дисплеях, печатных платах и оптоэлектронике в качестве ключевых компонентов.

Оптические тонкие пленки

Оптические покрытия и оптоэлектроника являются стандартными областями применения тонких оптических пленок. Молекулярно-лучевая эпитаксия может производить оптоэлектронные тонкопленочные устройства (полупроводники), в которых эпитаксиальные пленки наносятся на подложку по одному атому за раз.

Полимерные тонкие пленки

Тонкие полимерные пленки используются в микросхемах памяти, солнечных элементах и электронных устройствах. Методы химического осаждения (CVD) обеспечивают точный контроль полимерных пленочных покрытий, включая соответствие и толщину покрытия.

Тонкопленочные батареи

Тонкопленочные батареи питают электронные устройства, такие как имплантируемые медицинские устройства, а литий-ионные батареи значительно продвинулись вперед благодаря использованию тонких пленок.

Тонкопленочные покрытия

Тонкопленочные покрытия улучшают химические и механические характеристики целевых материалов в различных отраслях промышленности и технологических областях. Некоторыми распространенными примерами являются антибликовые покрытия, анти-ультрафиолетовое или анти-инфракрасное покрытие, покрытие против царапин и поляризация линзы.

Тонкопленочные солнечные элементы

Тонкопленочные солнечные элементы необходимы для солнечной энергетики, позволяя производить относительно дешевую и чистую электроэнергию. Фотоэлектрические системы и тепловая энергия являются двумя основными применимыми технологиями.

Факторы и параметры, влияющие на осаждение тонких пленок

Скорость осаждения:

Скорость производства пленки, обычно измеряемая по толщине, деленной на время, имеет решающее значение для выбора технологии, подходящей для конкретного применения. Умеренные скорости осаждения достаточны для тонких пленок, в то время как для толстых необходимы высокие скорости осаждения. Важно найти баланс между скоростью и точным контролем толщины пленки.

Единообразие:

Однородность пленки по подложке известна как однородность, которая обычно относится к толщине пленки, но также может относиться к другим свойствам, таким как показатель преломления. Важно иметь хорошее представление о приложении, чтобы избежать недостаточного или чрезмерного определения единообразия.

Возможность заполнения:

Способность заполнения или ступенчатое покрытие относится к тому, насколько хорошо процесс осаждения охватывает топографию подложки. Используемый метод осаждения (например, CVD, PVD, IBD или ALD) оказывает значительное влияние на покрытие и заполнение ступеней.

Характеристики фильма:

Характеристики пленки зависят от требований приложения, которые можно разделить на фотонные, оптические, электронные, механические или химические. Большинство фильмов должны соответствовать требованиям более чем в одной категории.

Температура процесса:

На характеристики пленки существенно влияет температура процесса, которая может быть ограничена областью применения.

Повреждать:

Каждая технология осаждения может повредить материал, на который наносится осаждение, при этом более мелкие элементы более подвержены повреждению процесса. Загрязнение, УФ-излучение и ионная бомбардировка входят в число потенциальных источников повреждений. Крайне важно понимать ограничения материалов и инструментов.

Посмотреть больше часто задаваемых вопросов по этому продукту

4.8

out of

5

Fast delivery and excellent packaging. The rack is made of high-quality PTFE, which is resistant to corrosion and heat.

Muhammad Rafiq

4.9

out of

5

The rack is very easy to use and clean. It holds the substrates securely and prevents them from moving around during the cleaning process.

Sofia Andersson

4.7

out of

5

The rack is very durable and has been able to withstand the harsh chemicals used in the cleaning process.

Giovanni Rossi

4.6

out of

5

The rack is very affordable and is a great value for the price.

Maria Garcia

4.9

out of

5

The rack is very technologically advanced and has helped us to improve the quality of our products.

Ahmed Khan

4.8

out of

5

The rack is very easy to use and has helped us to save time in the cleaning process.

Anna Kowalska

4.7

out of

5

The rack is very durable and has been able to withstand the harsh conditions of the cleaning process.

Pedro Silva

4.6

out of

5

The rack is very affordable and is a great value for the price.

Ayşe Yılmaz

4.9

out of

5

The rack is very technologically advanced and has helped us to improve the quality of our products.

Li Chen

4.8

out of

5

The rack is very easy to use and has helped us to save time in the cleaning process.

Natalia Ivanova

4.7

out of

5

The rack is very durable and has been able to withstand the harsh conditions of the cleaning process.

Omar Ali

4.6

out of

5

The rack is very affordable and is a great value for the price.

Maria Gonzalez

4.9

out of

5

The rack is very technologically advanced and has helped us to improve the quality of our products.

Ahmed Hassan

4.8

out of

5

The rack is very easy to use and has helped us to save time in the cleaning process.

Anna Smith

4.7

out of

5

The rack is very durable and has been able to withstand the harsh conditions of the cleaning process.

Pedro Martinez

PDF - Полка для очистки проводящей стеклянной подложки из ПТФЭ

Скачать

Каталог Материал Птфэ

Скачать

Каталог Рф Пэвд

Скачать

Каталог Тонкопленочные Материалы Для Осаждения

Скачать

ЗАПРОС ЦИТАТЫ

Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!

Связанные товары

Лаборатория ITO/FTO проводящее стекло очистка цветок корзина

Лаборатория ITO/FTO проводящее стекло очистка цветок корзина

Подставки для чистки PTFE в основном изготавливаются из тетрафторэтилена. PTFE, известный как "король пластмасс", представляет собой полимерное соединение, состоящее из тетрафторэтилена.

Корзинка для цветов с регулируемой высотой из PTFE/штатив для чистки проводящего стекла для проявки и травления

Корзинка для цветов с регулируемой высотой из PTFE/штатив для чистки проводящего стекла для проявки и травления

Корзина для цветов изготовлена из тефлона, который является химически инертным материалом. Благодаря этому он устойчив к большинству кислот и щелочей и может применяться в самых разных областях.

полка для очистки ПТФЭ

полка для очистки ПТФЭ

Решетки для очистки PTFE в основном изготавливаются из тетрафторэтилена. ПТФЭ, известный как «Король пластмасс», представляет собой полимерное соединение, изготовленное из тетрафторэтилена.

Штатив для центрифужных пробирок из ПТФЭ

Штатив для центрифужных пробирок из ПТФЭ

Прецизионные штативы для пробирок из ПТФЭ полностью инертны, и благодаря высокотемпературным свойствам ПТФЭ эти штативы для пробирок можно стерилизовать (автоклавировать) без каких-либо проблем.

Пинцет из ПТФЭ

Пинцет из ПТФЭ

Пинцеты из ПТФЭ унаследовали превосходные физические и химические свойства ПТФЭ, такие как устойчивость к высоким температурам, холодостойкость, кислото- и щелочестойкость, а также коррозионная стойкость к большинству органических растворителей.

Изолятор из ПТФЭ

Изолятор из ПТФЭ

Изолятор из ПТФЭ ПТФЭ обладает превосходными электроизоляционными свойствами в широком диапазоне температур и частот.

30L Отопление Охлаждение Циркулятор Высокая температура и низкая температура постоянная температура реакционная ванна

30L Отопление Охлаждение Циркулятор Высокая температура и низкая температура постоянная температура реакционная ванна

Получите универсальную лабораторную производительность с циркуляционным насосом KinTek KCBH 30L с подогревом и охлаждением. С макс. температура нагрева 200 ℃ и макс. температура охлаждения -80 ℃, идеально подходит для промышленных нужд.

Стеклоуглеродный электрод

Стеклоуглеродный электрод

Усовершенствуйте свои эксперименты с нашим электродом из стеклоуглерода. Безопасный, прочный и настраиваемый в соответствии с вашими конкретными потребностями. Откройте для себя наши полные модели сегодня.

50L Отопление охлаждение циркулятор высокая температура и низкая температура постоянная температура реакционная ванна

50L Отопление охлаждение циркулятор высокая температура и низкая температура постоянная температура реакционная ванна

Испытайте универсальные возможности нагрева, охлаждения и циркуляции с нашим циркуляционным насосом KinTek KCBH 50L с подогревом и охлаждением. Идеально подходит для лабораторий и промышленных предприятий, обеспечивая эффективную и надежную работу.

контейнер из ПТФЭ

контейнер из ПТФЭ

Контейнер из ПТФЭ представляет собой контейнер с отличной коррозионной стойкостью и химической инертностью.

10-50 л одинарный стеклянный реактор

10-50 л одинарный стеклянный реактор

Ищете надежную систему с одним стеклянным реактором для своей лаборатории? Наш реактор объемом 10-50 л предлагает точный контроль температуры и перемешивания, надежную поддержку и функции безопасности для синтетических реакций, дистилляции и многого другого. Настраиваемые параметры и специализированные услуги KinTek готовы удовлетворить ваши потребности.

Трубка для отбора проб масляных паров из бутыли из ПТФЭ

Трубка для отбора проб масляных паров из бутыли из ПТФЭ

Изделия из ПТФЭ обычно называют «антипригарным покрытием», которое представляет собой синтетический полимерный материал, заменяющий все атомы водорода в полиэтилене на фтор.

Стеклянный реактор с рубашкой 10-50 л

Стеклянный реактор с рубашкой 10-50 л

Откройте для себя универсальный стеклянный реактор с рубашкой объемом 10–50 л для фармацевтической, химической и биологической промышленности. Доступны точный контроль скорости перемешивания, несколько защит безопасности и настраиваемые параметры. KinTek, ваш партнер по производству стеклянных реакторов.

Фильтр для отбора проб из ПТФЭ

Фильтр для отбора проб из ПТФЭ

Фильтрующий элемент из ПТФЭ является широко используемым промышленным фильтрующим элементом, в основном используемым для фильтрации агрессивных сред, таких как химические вещества высокой чистоты, сильные кислоты и сильные щелочи.

Тефлоновая лопатка / шпатель из ПТФЭ

Тефлоновая лопатка / шпатель из ПТФЭ

Известный своей превосходной термической стабильностью, химической стойкостью и электроизоляционными свойствами, ПТФЭ является универсальным термопластичным материалом.

Стеклянный реактор с рубашкой 80-150 л

Стеклянный реактор с рубашкой 80-150 л

Ищете универсальную систему реакторов со стеклянным кожухом для вашей лаборатории? Наш реактор объемом 80-150 л предлагает регулируемую температуру, скорость и механические функции для синтетических реакций, дистилляции и многого другого. Благодаря настраиваемым параметрам и специализированным услугам KinTek поможет вам.

прокладка из ПТФЭ

прокладка из ПТФЭ

Прокладки представляют собой материалы, помещаемые между двумя плоскими поверхностями для улучшения уплотнения. Для предотвращения утечки жидкости между неподвижными уплотняющими поверхностями расположены уплотнительные элементы.

Высокотемпературная печь для обдирки и предварительного спекания

Высокотемпературная печь для обдирки и предварительного спекания

KT-MD Высокотемпературная печь для обдирки и предварительного спекания керамических материалов с различными процессами формовки. Идеально подходит для электронных компонентов, таких как MLCC и NFC.

Стеклянный реактор с рубашкой 1-5 л

Стеклянный реактор с рубашкой 1-5 л

Откройте для себя идеальное решение для ваших фармацевтических, химических или биологических продуктов с помощью нашей системы реакторов со стеклянным кожухом объемом 1–5 л. Доступны пользовательские опции.

Реактор высокого давления из нержавеющей стали

Реактор высокого давления из нержавеющей стали

Откройте для себя универсальность реактора высокого давления из нержавеющей стали — безопасного и надежного решения для прямого и непрямого нагрева. Изготовленный из нержавеющей стали, он может выдерживать высокие температуры и давление. Узнайте больше прямо сейчас.

20L Отопление охлаждение циркулятор высокая температура и низкая температура постоянная температура реакционная ванна

20L Отопление охлаждение циркулятор высокая температура и низкая температура постоянная температура реакционная ванна

Максимально увеличьте производительность лаборатории с циркуляционным насосом KinTek KCBH объемом 20 л с подогревом и охлаждением. Его конструкция «все в одном» предлагает надежные функции нагрева, охлаждения и циркуляции для промышленного и лабораторного использования.

Седло шарового клапана из ПТФЭ

Седло шарового клапана из ПТФЭ

Седла и вставки являются жизненно важными компонентами в арматуростроении. В качестве ключевого компонента в качестве сырья обычно выбирают политетрафторэтилен.

Связанные статьи

Разностороннее применение стеллажей для чистки из ПТФЭ: Повышение эффективности и точности работы лаборатории

Разностороннее применение стеллажей для чистки из ПТФЭ: Повышение эффективности и точности работы лаборатории

Ознакомьтесь с разнообразными областями применения штативов для чистки из ПТФЭ в лабораторных условиях. Узнайте, как эти важнейшие инструменты оптимизируют процессы очистки, повышают точность и способствуют повышению эффективности и точности работы лаборатории в целом.

Узнать больше
Подставки для чистки ПТФЭ: Окончательное руководство по очистке и сушке лабораторной посуды

Подставки для чистки ПТФЭ: Окончательное руководство по очистке и сушке лабораторной посуды

В этом подробном руководстве мы погрузимся в мир штативов для очистки PTFE, изучим их преимущества, области применения и лучшие методы очистки и сушки лабораторной посуды для обеспечения оптимальной производительности и долговечности.

Узнать больше
Как мыть лабораторную посуду — часть 2

Как мыть лабораторную посуду — часть 2

Как очистить лабораторную посуду? Вот несколько соображений и советов.

Узнать больше
Общие причины и решения для PECVD-покрытия в кристаллических кремниевых солнечных элементах

Общие причины и решения для PECVD-покрытия в кристаллических кремниевых солнечных элементах

Анализирует общие проблемы нанесения покрытий PECVD на солнечные элементы и предлагает решения для повышения качества и снижения затрат.

Узнать больше
Учет особенностей нанесения испарительного покрытия на гибкие подложки

Учет особенностей нанесения испарительного покрытия на гибкие подложки

Ключевые факторы успешного нанесения испарительного покрытия на гибкие материалы, обеспечивающие качество и производительность.

Узнать больше
Распространенные причины и решения для трубчатых покрытий PECVD

Распространенные причины и решения для трубчатых покрытий PECVD

В этой статье рассматриваются распространенные причины переделок при нанесении покрытий методом PECVD на кристаллические кремниевые солнечные элементы и предлагаются возможные решения для повышения качества и снижения затрат.

Узнать больше
Применение изостатического графита в фотоэлектрической промышленности

Применение изостатического графита в фотоэлектрической промышленности

Обзор использования изостатического графита на различных этапах производства фотоэлектрической продукции и его востребованности на рынке.

Узнать больше
Как трубчатый PECVD адаптируется к большим размерам пластин

Как трубчатый PECVD адаптируется к большим размерам пластин

Изучение проблем и решений для трубчатого PECVD при работе с кремниевыми пластинами большого размера.

Узнать больше
Технология получения и переноса графена методом химического осаждения из паровой фазы

Технология получения и переноса графена методом химического осаждения из паровой фазы

В этой статье рассматриваются методы получения графена с акцентом на технологию CVD, методы ее переноса и будущие перспективы.

Узнать больше