Знание Каковы применимые размеры образца для держателя образца? Обеспечьте идеальное соответствие вашим лабораторным образцам
Аватар автора

Техническая команда · Kintek Solution

Обновлено 3 недели назад

Каковы применимые размеры образца для держателя образца? Обеспечьте идеальное соответствие вашим лабораторным образцам


Держатель образца вмещает круглые образцы диаметром 20 мм и более, а также квадратные образцы со стороной 15 мм и более. Для оптимальной работы толщина образца должна составлять от 1 мм до 3 мм. Активная зона реакции для любого образца стандартизирована и составляет один квадратный сантиметр.

Помимо физических размеров, истинная полезность держателя определяется его эксплуатационными пределами. Соблюдение его специфических ограничений по температуре, давлению и обращению имеет решающее значение как для точности экспериментов, так и для долговечности оборудования.

Каковы применимые размеры образца для держателя образца? Обеспечьте идеальное соответствие вашим лабораторным образцам

Требуемые размеры образца

Чтобы обеспечить надежное крепление и правильное функционирование, ваш образец должен соответствовать набору минимальных размеров и определенному диапазону толщины.

Для круглых образцов

Минимально допустимый диаметр для круглого образца составляет 20 мм. Образцы меньшего размера не будут надежно закреплены держателем.

Для квадратных образцов

Для образцов квадратной формы минимальная требуемая длина стороны составляет 15 мм.

Рекомендуемая толщина

Идеальная толщина образца составляет от 1 мм до 3 мм. Этот диапазон обеспечивает надлежащий контакт и стабильность в сборке держателя.

Значение зоны реакции

Независимо от общего размера образца, эффективная площадь взаимодействия фиксирована и составляет один квадратный сантиметр (1 см²). Крайне важно, чтобы ваш интересующий материал полностью покрывал эту обозначенную зону.

Понимание эксплуатационных ограничений

Этот держатель образца является прецизионным инструментом, предназначенным для определенных условий эксперимента. Работа за пределами этих границ может привести к неточным результатам или повреждению оборудования.

Предназначен для использования при комнатной температуре

Держатель специально разработан для использования при комнатной температуре. Высокие температуры могут изменить его физическую структуру, что, в свою очередь, влияет на его электропроводность и химическую стабильность.

Не для условий высокого давления

Аналогично, держатель не следует использовать в условиях высокого давления. Его конструкция не рассчитана на такие условия.

Правильные процедуры обращения

Всегда следуйте стандартным рабочим процедурам для вашего эксперимента. Избегайте приложения чрезмерной силы или столкновений, так как это может повредить как образец, так и держатель.

Примечание о вакуумных камерах

При использовании держателя в вакуумной камере его необходимо помещать в камеру медленно. Быстрое движение может создать воздушный поток, который сместит образец с его положения.

Критические рекомендации по хранению и обслуживанию

Правильное хранение не является дополнительным требованием; это основа поддержания целостности и производительности держателя с течением времени.

Условия окружающей среды

Храните держатель в сухом, проветриваемом помещении, полностью свободном от коррозионных газов. Избегайте мест с высокой влажностью или экстремальными температурами.

Предотвращение физических повреждений

По возможности храните держатель отдельно от острых или тяжелых предметов. Это предотвращает повреждение от случайных столкновений, сжатия или царапин.

Как обеспечить надежное и безопасное использование

Ваша цель определяет, как следует расставлять приоритеты в этих рекомендациях.

  • Если ваш основной фокус — обеспечение правильного соответствия: Убедитесь, что ваш образец соответствует минимальному диаметру 20 мм или длине стороны 15 мм и находится в диапазоне толщины 1–3 мм.
  • Если ваш основной фокус — максимальное продление срока службы держателя: Строго соблюдайте предел рабочей температуры в помещении и требования к хранению в сухом, проветриваемом месте.
  • Если ваш основной фокус — получение точных результатов: Убедитесь, что ваш образец полностью покрывает зону реакции 1 см² и что вы работаете в пределах эксплуатационных ограничений держателя.

Соблюдение этих спецификаций гарантирует, что ваше оборудование будет работать надежно и давать достоверные, воспроизводимые результаты.

Сводная таблица:

Тип образца Минимальный размер Рекомендуемая толщина Активная зона реакции
Круглый Диаметр 20 мм 1 мм - 3 мм 1 см²
Квадратный Длина стороны 15 мм 1 мм - 3 мм 1 см²

Обеспечьте точные и надежные результаты с помощью правильного оборудования.

KINTEK специализируется на высококачественном лабораторном оборудовании и расходных материалах, включая прецизионные держатели образцов, разработанные для точности и долговечности. Независимо от того, работаете ли вы с круглыми или квадратными образцами, наша продукция поможет вам поддерживать целостность эксперимента и получать воспроизводимые результаты.

Позвольте нам поддержать успех вашей лаборатории. Свяжитесь с нашими экспертами сегодня, чтобы найти идеальный держатель образца для ваших конкретных нужд и узнать больше о нашем полном спектре надежных лабораторных решений.

Визуальное руководство

Каковы применимые размеры образца для держателя образца? Обеспечьте идеальное соответствие вашим лабораторным образцам Визуальное руководство

Связанные товары

Люди также спрашивают

Связанные товары

Настраиваемые держатели образцов для рентгеновской дифракции для различных исследовательских применений

Настраиваемые держатели образцов для рентгеновской дифракции для различных исследовательских применений

Держатели образцов для рентгеновской дифракции с высокой прозрачностью и нулевыми пиками примесей. Доступны в квадратном и круглом исполнении, а также изготавливаются на заказ для дифрактометров Bruker, Shimadzu, PANalytical и Rigaku.

Заказные держатели для пластин из ПТФЭ для лабораторной и полупроводниковой обработки

Заказные держатели для пластин из ПТФЭ для лабораторной и полупроводниковой обработки

Это высокочистый, изготовленный на заказ держатель из ПТФЭ (Тефлон), искусно разработанный для безопасного обращения и обработки деликатных подложек, таких как проводящее стекло, пластины и оптические компоненты.

Раздельная камерная трубчатая печь для химического осаждения из паровой фазы с вакуумной станцией

Раздельная камерная трубчатая печь для химического осаждения из паровой фазы с вакуумной станцией

Эффективная разделительная камерная печь для химического осаждения из паровой фазы с вакуумной станцией для интуитивного контроля образцов и быстрого охлаждения. Максимальная температура до 1200℃ с точным управлением массовым расходомером MFC.

Раздельная трубчатая печь 1200℃ с кварцевой трубой лабораторная трубчатая печь

Раздельная трубчатая печь 1200℃ с кварцевой трубой лабораторная трубчатая печь

Раздельная трубчатая печь KT-TF12: высокочистая изоляция, встроенные спирали нагревательного провода и макс. 1200°C. Широко используется для новых материалов и осаждения из паровой фазы.

Малая печь для вакуумной термообработки и спекания вольфрамовой проволоки

Малая печь для вакуумной термообработки и спекания вольфрамовой проволоки

Малая печь для спекания вольфрамовой проволоки в вакууме — это компактная экспериментальная вакуумная печь, специально разработанная для университетов и научно-исследовательских институтов. Печь оснащена сварным корпусом и вакуумными трубопроводами, изготовленными на станках с ЧПУ, что обеспечивает герметичность. Быстроразъемные электрические соединения облегчают перемещение и отладку, а стандартный электрический шкаф управления безопасен и удобен в эксплуатации.

Лабораторная вакуумная наклонно-вращательная трубчатая печь Вращающаяся трубчатая печь

Лабораторная вакуумная наклонно-вращательная трубчатая печь Вращающаяся трубчатая печь

Откройте для себя универсальность лабораторной вращающейся печи: идеально подходит для прокаливания, сушки, спекания и высокотемпературных реакций. Регулируемые функции вращения и наклона для оптимального нагрева. Подходит для вакуумных сред и сред с контролируемой атмосферой. Узнайте больше прямо сейчас!

Высокотемпературная лабораторная трубчатая печь высокого давления

Высокотемпературная лабораторная трубчатая печь высокого давления

Трубчатая печь высокого давления KT-PTF: Компактная разъемная трубчатая печь с высокой устойчивостью к положительному давлению. Рабочая температура до 1100°C и давление до 15 МПа. Также работает в контролируемой атмосфере или в условиях высокого вакуума.

Графитовая вакуумная печь для экспериментальной графитизации на IGBT-транзисторах

Графитовая вакуумная печь для экспериментальной графитизации на IGBT-транзисторах

Экспериментальная печь для графитизации на IGBT-транзисторах, разработанная для университетов и научно-исследовательских институтов, с высокой эффективностью нагрева, простотой использования и точным контролем температуры.

Лабораторная кварцевая трубчатая печь 1400℃ с трубчатой печью с глиноземной трубой

Лабораторная кварцевая трубчатая печь 1400℃ с трубчатой печью с глиноземной трубой

Ищете трубчатую печь для высокотемпературных применений? Наша трубчатая печь 1400℃ с глиноземной трубой идеально подходит для исследований и промышленного использования.

Вакуумная печь для спекания зубной керамики

Вакуумная печь для спекания зубной керамики

Получите точные и надежные результаты с вакуумной печью для керамики KinTek. Подходит для всех видов керамических порошков, оснащена функцией гиперболической керамической печи, голосовыми подсказками и автоматической калибровкой температуры.

Муфельная печь 1700℃ для лаборатории

Муфельная печь 1700℃ для лаборатории

Получите превосходный контроль температуры с нашей муфельной печью 1700℃. Оснащена интеллектуальным микропроцессором температуры, сенсорным TFT-экраном и передовыми изоляционными материалами для точного нагрева до 1700°C. Закажите сейчас!

Печь для вакуумной термообработки и спекания молибденовой проволоки для вакуумного спекания

Печь для вакуумной термообработки и спекания молибденовой проволоки для вакуумного спекания

Вакуумная печь для спекания молибденовой проволоки имеет вертикальную или камерную конструкцию, подходящую для отжига, пайки, спекания и дегазации металлических материалов в условиях высокого вакуума и высокой температуры. Она также подходит для дегидроксилирования кварцевых материалов.

Печь горячего прессования в вакууме, машина для горячего прессования, трубчатая печь

Печь горячего прессования в вакууме, машина для горячего прессования, трубчатая печь

Снизьте давление формования и сократите время спекания с помощью трубчатой печи горячего прессования в вакууме для получения материалов с высокой плотностью и мелкозернистой структурой. Идеально подходит для тугоплавких металлов.

Лабораторная муфельная печь с нижним подъемом

Лабораторная муфельная печь с нижним подъемом

Эффективно производите партии с отличной равномерностью температуры с помощью нашей печи с нижним подъемом. Оснащена двумя электрическими подъемными ступенями и передовым контролем температуры до 1600℃.

Вакуумная печь горячего прессования для ламинирования и нагрева

Вакуумная печь горячего прессования для ламинирования и нагрева

Обеспечьте чистое и точное ламинирование с помощью вакуумного ламинационного пресса. Идеально подходит для склеивания пластин, преобразования тонких пленок и ламинирования LCP. Закажите сейчас!

Вакуумная индукционная горячая прессовая печь 600T для термообработки и спекания

Вакуумная индукционная горячая прессовая печь 600T для термообработки и спекания

Откройте для себя вакуумную индукционную горячую прессовую печь 600T, разработанную для высокотемпературных экспериментов по спеканию в вакууме или защитной атмосфере. Точный контроль температуры и давления, регулируемое рабочее давление и расширенные функции безопасности делают ее идеальной для неметаллических материалов, углеродных композитов, керамики и металлических порошков.

Муфельная печь 1800℃ для лаборатории

Муфельная печь 1800℃ для лаборатории

Муфельная печь KT-18 с японским поликристаллическим волокном Al2O3 и нагревательным элементом из кремния и молибдена, до 1900℃, с ПИД-регулированием температуры и 7-дюймовым сенсорным экраном. Компактная конструкция, низкие теплопотери и высокая энергоэффективность. Система блокировки безопасности и универсальные функции.

Муфельная печь 1400℃ для лаборатории

Муфельная печь 1400℃ для лаборатории

Получите точный контроль высоких температур до 1500℃ с муфельной печью KT-14M. Оснащена интеллектуальным сенсорным контроллером и передовыми изоляционными материалами.

Печь для вакуумной термообработки и спекания с давлением воздуха 9 МПа

Печь для вакуумной термообработки и спекания с давлением воздуха 9 МПа

Печь для спекания под давлением воздуха — это высокотехнологичное оборудование, обычно используемое для спекания передовых керамических материалов. Она сочетает в себе методы вакуумного спекания и спекания под давлением для получения керамики высокой плотности и прочности.


Оставьте ваше сообщение