Статьи

Обсуждаются ключевые факторы, влияющие на равномерность осаждения тонких пленок при магнетронном распылении, включая параметры оборудования, мощность распыления, давление газа, конфигурацию магнитного поля, свойства подложки и многое другое.

Рекомендации по выбору подходящих материалов для вакуумного покрытия с учетом области применения, свойств материала, методов осаждения, экономичности, совместимости с подложкой и безопасности.

Исследуются причины, по которым рениевые мишени не светятся при магнетронном распылении, и предлагаются предложения по оптимизации.

Основные параметры, влияющие на эффект напыления при магнетронном распылении, включая давление воздуха, мощность, расстояние до мишени, тип подложки и другие.

Изучение изменения цвета, методов контроля и практического применения тонких пленок оксида кремния.

Рекомендации и меры предосторожности при подготовке слоев пленки PZT методом магнетронного распыления.

Ключевые факторы успешного нанесения испарительного покрытия на гибкие материалы, обеспечивающие качество и производительность.

Обзор типов источников питания смещения в магнетронном распылении и их роли в улучшении адгезии и плотности пленки.

В этой статье рассказывается о различиях и применении методов напыления на постоянном токе, МП и ВЧ для получения тонких пленок.

Объясняет, почему материал мишени искрит при магнетронном распылении, и предлагает решения для предотвращения этого.

Подробный обзор технологии напыления, ее механизмов, типов и областей применения.

Обзор технологии CVD, ее принципов, типов, областей применения, характеристик процесса и преимуществ.

Обзор методов осаждения тонких пленок с упором на процессы химического осаждения из паровой фазы (CVD) и физического осаждения из паровой фазы (PVD) в производстве полупроводников.

В этой статье подробно описаны различные технологии CVD, используемые в полупроводниковой промышленности и производстве тонких пленок.

Рассматривается влияние MPCVD-культивированных алмазов на различные отрасли промышленности и стратегии снижения затрат и повышения эффективности.

Ключевые соображения при выборе MPCVD-устройства для выращивания алмазов.

Глубокое исследование технологии MPCVD, ее компонентов, преимуществ и факторов, влияющих на рост пленки.

Обсуждает различные методы нагрева в лабораториях и их пригодность для различных экспериментов.

Подробный обзор гидравлического горячего пресса, его компонентов, характеристик, преимуществ и областей применения.

Подробное руководство по технике безопасности и эксплуатации при использовании плоского горячего пресса в экспериментах по ламинированию, включая предварительные проверки, подготовку материалов, процедуры нагрева и последующую обработку.

Всеобъемлющее руководство по подготовке образцов для анализа методом инфракрасной спектроскопии, охватывающее газовые, жидкие и твердые образцы.

Обзор методов инфракрасной спектроскопии с акцентом на метод прессования и подготовку образцов с помощью бромистого калия.

Подробные меры безопасности и порядок действий при использовании плоского горячего пресса в экспериментах по ламинированию.

Обзор широкого спектра применения технологии холодного изостатического прессования в различных отраслях промышленности.

Объясняет механизм, факторы и процесс холодного изостатического прессования в порошковом формовании.

Рассматривается использование технологии HIP в специальной керамике с акцентом на подготовку, характеристики и тенденции развития отрасли.

Рассматриваются свойства, подготовка и преимущества использования циркониевой керамики в реставрации зубов.

В этой статье рассматриваются различные дефекты в изостатически прессованных керамических шариках и предлагаются стратегии решения для каждого типа дефектов.

Подробный обзор различных методов спекания циркониевой керамики и распространенных проблем, возникающих в ходе этого процесса.

Подробный обзор технологии изостатического прессования, ее типов и различных областей применения в различных отраслях промышленности.