Немедленный ответ в рабочие дни (в течение 8 часов в праздничные дни)
рф пэвд
RF PECVD расшифровывается как радиочастотное плазменное химическое осаждение из паровой фазы. Это хорошо зарекомендовавший себя метод нанесения тонких пленок на плоские подложки, используемый в стандартной технологии кремниевых интегральных схем. Метод RF PECVD недорог и высокоэффективен. Рост пленки происходит за счет активации газофазных прекурсоров в плазменной среде. Химические реакции, активируемые плазмой, происходят над подложкой и на ней. RF PECVD позволяет наносить такие материалы, как карбид кремния, и может использоваться для покрытия объектов различной формы.
У нас есть лучшие решения RF-PECVD для нужд вашей лаборатории. Наш обширный портфель предлагает ряд стандартных решений, подходящих для различных областей применения. Для более уникальных требований наша служба индивидуального проектирования может разработать решение в соответствии с вашими требованиями.
Применение RF PECVD
Изготовление пленок с регулируемым показателем преломления
Осаждение стопки нанопленок с разными свойствами
Покрытие сложных форм однородной пленкой карбида кремния
Получение вертикальных графеновых материалов с уникальной микроструктурой
Создание поликристаллических пленок на подложке
Недорогое производство пленки
Высокая эффективность осаждения
Формирование высококачественных тонких пленок при низких температурах
Получение тонких кремниевых пленок
Нанесение тонких пленок на подложки, приподнятые в плазменном реакторе
Преимущества RF PECVD
Короткое время подготовки
Контролируемый процесс
Бюджетный
Возможность крупномасштабного осаждения
Экологически чистая технология
Возможность настройки источника углерода и газа-носителя для достижения желаемых свойств
Может использоваться для нанесения на подложки сложной формы и приподнятые поверхности.
Возможность недорогого изготовления пленки
Высокая эффективность осаждения
Материалы могут быть нанесены в виде пленок с переменным показателем преломления или в виде стопки нанопленок, каждая из которых имеет разные свойства.
Наша технология RF PECVD — идеальное решение для тех, кому требуется эффективное, недорогое и настраиваемое лабораторное оборудование. Благодаря короткому времени подготовки и контролируемым характеристикам RF PECVD является предпочтительным выбором для тех, кому требуются высококачественные вертикальные графеновые материалы. Наша обширная линейка продуктов гарантирует, что у нас есть стандартное решение, которое соответствует вашим потребностям, а наши услуги по индивидуальному дизайну позволяют нам удовлетворить ваши конкретные требования.
FAQ
Что такое RF PECVD?
RF PECVD означает радиочастотное плазменное химическое осаждение из паровой фазы, которое представляет собой метод, используемый для приготовления поликристаллических пленок на подложке с использованием плазмы тлеющего разряда для воздействия на процесс во время химического осаждения из паровой фазы при низком давлении. Метод RF PECVD хорошо зарекомендовал себя для стандартной технологии кремниевых интегральных схем, где в качестве подложек обычно используются плоские пластины. Преимущество этого метода заключается в возможности дешевого изготовления пленки и высокой эффективности осаждения. Материалы также могут быть нанесены в виде пленок с переменным показателем преломления или в виде стопки нанопленок, каждая из которых имеет разные свойства.
ЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!