Немедленный ответ в рабочие дни (в течение 8 часов в праздничные дни)
паквд
Установка для плазменного химического осаждения из паровой фазы (PACVD) — это инструмент для производства полупроводников, который помогает наносить тонкие пленки из нескольких материалов на подложку при более низких температурах по сравнению со стандартным химическим осаждением из паровой фазы. Он работает путем введения газов-реагентов между параллельными электродами, где газ преобразуется в плазму, что приводит к химической реакции, в результате которой продукты реакции осаждаются на подложке. Эти машины имеют важное значение в современном производстве полупроводников, обеспечивая превосходную однородность пленки, низкотемпературную обработку и высокую производительность. Поскольку спрос на передовые электронные устройства продолжает расти, машина PACVD будет играть все более важную роль в полупроводниковой промышленности.
Мы предлагаем лучшие решения для машин плазменного химического осаждения из паровой фазы (PACVD) для производства высококачественных тонких пленок. Наши машины используют плазменное химическое осаждение из паровой фазы (PACVD) для создания тонких пленок с превосходной однородностью и адгезией. Наши машины доступны в различных форматах, включая низкое давление и дистанционное плазменное CVD. Мы также предлагаем услуги по индивидуальному дизайну для удовлетворения конкретных потребностей наших клиентов. С нашим обширным портфелем решений мы гарантируем, что у нас есть подходящее стандартное решение, которое удовлетворит ваши потребности.
Применение машины PACVD
Осаждение тонких пленок для электронных устройств
Покрытие солнечных батарей и фотогальванических устройств
Изготовление просветляющих покрытий для оптических приборов
Производство износостойких покрытий для режущего инструмента и деталей машин
Разработка барьерных покрытий для пищевой упаковки для предотвращения загрязнения
Создание биосовместимых покрытий для медицинских изделий
Производство защитных покрытий для автомобильных деталей
Изготовление покрытий для аэрокосмических компонентов
Разработка покрытий для микроэлектромеханических систем (МЭМС)
Создание покрытий для нанотехнологий
Преимущества машины PACVD
Низкая температура осаждения
Высокая эффективность осаждения
Контролируемые параметры
Хорошие диэлектрические свойства осажденных тонких пленок
Низкое механическое напряжение в осажденных тонких пленках
Хорошее покрытие конформных ступеней и однородность осажденных тонких пленок
Наша машина PACVD — идеальное решение для тех, кто ищет высококачественное и доступное тонкопленочное осаждение. В нашей установке используется метод химического осаждения из газовой фазы с усилением плазмы (PACVD), который позволяет наносить материалы при более низких температурах подложки, чем другие процессы осаждения. Наша машина PACVD не только экономична, но мы также предлагаем комплексные услуги по настройке для удовлетворения ваших конкретных требований.
FAQ
PACVD - это PECVD?
Да, PACVD (химическое осаждение из паровой фазы с плазменным усилением) — это еще один термин для PECVD (химическое осаждение из паровой фазы с плазменным усилением). В этом процессе используется энергичная плазма, сформированная в электрическом поле, для активации реакции CVD при более низких температурах, чем при термическом CVD, что делает его идеальным для подложек или осаждаемых пленок с низким тепловым балансом. Варьируя плазму, можно дополнительно контролировать свойства осаждаемой пленки. Большинство процессов PECVD проводятся при низком давлении для стабилизации плазмы разряда.
ЗАПРОС ЦИТАТЫ
Наша профессиональная команда ответит вам в течение одного рабочего дня. Пожалуйста, не стесняйтесь обращаться к нам!