Блог

Подробный обзор плюсов и минусов покрытия электронно-лучевым испарением и его различных применений в промышленности.

Обсуждаются трудности роста пленки TiN при переменном токе и предлагаются такие решения, как напыление на постоянном токе и импульсный постоянный ток.

Подробный обзор принципов, типов, газовых применений и практического использования процессов нанесения покрытий методом PVD.

Углубленное изучение принципов проектирования тонкопленочных систем, технологических аспектов и практического применения в различных областях.

Анализ факторов, вызывающих отсутствие осаждения пленки, несмотря на свечение при магнетронном распылении.

Обсуждаются ключевые факторы, влияющие на равномерность осаждения тонких пленок при магнетронном распылении, включая параметры оборудования, мощность распыления, давление газа, конфигурацию магнитного поля, свойства подложки и многое другое.

Рекомендации по выбору подходящих материалов для вакуумного покрытия с учетом области применения, свойств материала, методов осаждения, экономичности, совместимости с подложкой и безопасности.

Исследуются причины, по которым рениевые мишени не светятся при магнетронном распылении, и предлагаются предложения по оптимизации.

Основные параметры, влияющие на эффект напыления при магнетронном распылении, включая давление воздуха, мощность, расстояние до мишени, тип подложки и другие.

Изучение изменения цвета, методов контроля и практического применения тонких пленок оксида кремния.

Рекомендации и меры предосторожности при подготовке слоев пленки PZT методом магнетронного распыления.

Ключевые факторы успешного нанесения испарительного покрытия на гибкие материалы, обеспечивающие качество и производительность.

Обзор типов источников питания смещения в магнетронном распылении и их роли в улучшении адгезии и плотности пленки.

В этой статье рассказывается о различиях и применении методов напыления на постоянном токе, МП и ВЧ для получения тонких пленок.

Объясняет, почему материал мишени искрит при магнетронном распылении, и предлагает решения для предотвращения этого.

Подробный обзор технологии напыления, ее механизмов, типов и областей применения.

Обзор технологии CVD, ее принципов, типов, областей применения, характеристик процесса и преимуществ.

Обзор методов осаждения тонких пленок с упором на процессы химического осаждения из паровой фазы (CVD) и физического осаждения из паровой фазы (PVD) в производстве полупроводников.

В этой статье подробно описаны различные технологии CVD, используемые в полупроводниковой промышленности и производстве тонких пленок.

Рассматривается влияние MPCVD-культивированных алмазов на различные отрасли промышленности и стратегии снижения затрат и повышения эффективности.

Ключевые соображения при выборе MPCVD-устройства для выращивания алмазов.

Глубокое исследование технологии MPCVD, ее компонентов, преимуществ и факторов, влияющих на рост пленки.

Обсуждает различные методы нагрева в лабораториях и их пригодность для различных экспериментов.

Подробный обзор гидравлического горячего пресса, его компонентов, характеристик, преимуществ и областей применения.

Подробное руководство по технике безопасности и эксплуатации при использовании плоского горячего пресса в экспериментах по ламинированию, включая предварительные проверки, подготовку материалов, процедуры нагрева и последующую обработку.

Всеобъемлющее руководство по подготовке образцов для анализа методом инфракрасной спектроскопии, охватывающее газовые, жидкие и твердые образцы.

Обзор методов инфракрасной спектроскопии с акцентом на метод прессования и подготовку образцов с помощью бромистого калия.

Подробные меры безопасности и порядок действий при использовании плоского горячего пресса в экспериментах по ламинированию.

Обзор широкого спектра применения технологии холодного изостатического прессования в различных отраслях промышленности.

Объясняет механизм, факторы и процесс холодного изостатического прессования в порошковом формовании.